دستیابی محققان کشور به فناوری پوشش‌های نانو کامپوزیتی با رسوب فیزیکی بخار
بسپار به نقل از ایسنا می نویسد، رییس شهرک علمی تحقیقاتی اصفهان از دستیابی فناوران این مرکز علمی به فناوری ایجاد پوشش‌های سطحی سخت با ساختار نانو کامپوزیت به روش رسوب فیزیکی بخار (PVD) خبر داد.
منطقه اصفهان، مهدی کشمیری با اعلام این خبر گفت: فناوری PVD به طور کلی شامل مجموعه تکنیک‌هایی است که به وسیله آن‌ها با تبخیر یک یا چند فلز در یک محفظه خلا و تبدیل این بخار فلزی به پلاسمای اکتیو فلزی و ترکیب این پلاسما با پلاسمای اکتیو غیر فلزی ناشی از یونیزاسیون همزمان، یک لایه نازک با خواص مطلوب بر روی قطعه کار رسوب داده می‌شود.
وی افزود: بدیهی است خواص این لایه PVD تشکیل شده روی قطعه کار به ترکیب آن و تکنیک لایه نشانی بستگی دارد که این شرکت موفق شده با کنترل نسبت عناصر فلزی تبخیر شونده و کنترل شرایط رسوب؛ به فناوری رسوب پوشش‌های نانو کامپوزیت TiAlN-Si3N4 و TiC-DLC دست یابد.
رییس این مرکز علمی و تحقیقاتی ادامه داد: در این فناوری از یکی از پیشرفته‌ترین روش‌های لایه نشانی با عنوان Cathodic Arc Deposition استفاده می‌شود که در آن به علت قابلیت دستیابی به درصد بالای یونیزاسیون ذرات و انرژی رسوب بالای ذرات و به علت قابلیت تبخیر کنترل شده چند عنصر به طور همزمان، علاوه بر ایجاد انواع پوشش‌های کریستالی با ساختار مونو بلوک، امکان دست یابی به ساختار نانوکامپوزیت نیز فراهم شده است.
وی همچنین ادامه داد : پوشش‌های نانوکامپوزیت از اوایل سال 2000 در کشورهای پیشرفته کاربرد وسیعی در کنترل خواص سطحی قطعات کاربردی در صنایع مختلف از جمله صنایع هوافضا و انرژی هسته‌ای داشته‌اند.
وی بیان کرد: محققان قصد دارند با طراحی و تجهیز راکتور پوشش دهی، در جهت ایجاد پوشش‌های با ساختار نانو لایه نیز گام بردارند.
